第二百三十六章 赢麻
车间流水线开始运作，首先，所有人关注的自然就是提纯速度。
一堆堆已经经过初期过滤的沙子被投入进了电弧炉中，电弧炉中的温度已经高达两千摄氏度，里面还包括了焦炭，也是用来处理杂质的。
不过，林晓既然是对生产工艺进行最佳化，其中各种步骤自然都有他的全新设计，这个电弧炉里面的结构便经过了改造，内部现在多出了一种类似蜂巢形式的结构，这种结构能够让整个反应变得更加充分以及迅速。
当然，如果只是这么一个结构的话显然是不够的，这个类蜂巢结构也是林晓针对他们的电弧炉内部结构，然后再经过计算后，接着又根据物理和化学反应机理，然后定制出来的结构。
而他的这个结构，则能够让内部的反应更加充分，让内部的焦炭更加彻底地从沙子这些二氧化矽中夺走两个氧离子。
在场的人们看着眼前的电弧炉，哪怕是站在较远的距离，他们都彷佛能感受到里面的那种温度。
“这个大概要烧制多久啊？”
余建成忍不住问道。
“三小时。”林晓说道。
“才三小时？”
余建成顿时一惊，“我们以前一炉子都要烧四、五个小时呢。”
这样一来的话，烧制的速度不就直接提升了2025吗？
这样的提升，不可谓不大。
林晓笑了笑，说道：“只要我的计算没问题，肯定是没问题的。”
这时，旁边的一位工艺设计工程师忍不住问道：“林教授，您能说一下里面的原理吗？”
这位工艺设计工程师叫卢章，本身是上矽产业的工艺设计工程师，这条生产线原来的工艺，包括这个提纯过程，也都是这位工程师设计的。
而现在林晓针对这些流程进行了最佳化，他这位工程师当然要过来看一看。
而林晓看了一眼这位卢章，只是微微一笑，吐出了两个字：“磁场。”
周围的人都不由一愣。
磁场？
卢章也感到疑惑：“为什么是磁场？”
“我们的电弧炉，是透过电极电弧产生的高温来熔炼的，那么，这些电弧，自然就能对内部产生磁场。”
“而磁场，是能够对内部反应造成影响的。”
听到林晓这么说，卢章脸上稍稍疑惑了一会儿，然后就露出了震惊的表情。
“您的意思是，您透过控制内部磁场，提高了反应速率，让内部反应更加充分？”
“是的。”
林晓点点头。
电弧炉内部高温来源于放电，电极产生的电弧会导致磁场的出现，而一般来说，这些磁场总会对内部反应产生一些影响效果。
化学反应的本质就是内部电子的转移，电弧炉发生的反应，就是二氧化矽和碳在高温下发生的氧化还原反应，最终形成单质矽和一氧化碳，反应方程式大概初中生也能写出来。
而在过程中，电弧产生的磁场对化学反应过程中的电子迁移过程就会造成影响。
只不过在过去，设计师们一般都不会考虑这种问题，毕竟能够充分反应就行了，电弧产生的磁场虽然能够对反应产生一定的影响，但是由于内部已经形成了一个混沌系统，磁场在各方向的抵消之下，其作用就可以忽略不计了，然后再透过更长时间的反应，就能够完成了第一步的粗炼过程了。
而林晓却没有选择这种传统的方法，而是选择了直接透过改变内部结构来改变磁场的影响过程，他利用那种蜂巢结构，让电弧能够被这个蜂巢结构所影响，于是电弧产生的磁场也就可以确定了。
然后他再对内部所有参与反应的粒子进行统计，根据统计结果计算出如何利用这种被控制的磁场来促进化学反应的速率，此外还能够控制内部异性离子相互靠近，进而让反应变得更加充分。
透过这些结果，他就能够搭建出这个蜂巢型的结构。
并且同一种电弧炉构建的蜂巢型结构只能有一种，不同的电弧炉想要复制，除非能够根据林晓的计算思路再来一遍，显然是搞不出来的，那样的结果只能是浪费力气。
但显然，林晓的这个计算思路，仅存于他的脑海中，其他人想要逆推出来，至少数学、化学、物理方面都得有他一半强。
而且还得专业对口。
至于这种人，这个世界上有没有嘛……
对此林晓不予置评，做人要谦虚一点。
而旁边的卢章却因为林晓刚才的确认而震惊了。
透过电弧炉内部的磁场来加快内部化学反应速率……这是他们地球人现在能做到的程度吗？
但是想想林晓那赫赫声名，那么多听起来都让人感到有些不可思议的东西，都被林晓所完成，控制一个电弧炉内部磁场而已……
似乎听起来也不是那么高大上？
卢章看了看旁边的余建成，忽然想对他说自己想辞职，去林晓的手底下学习学习，虽然他都四十多岁了，比林晓大了二十多岁，不过达者为师嘛，而且在林晓这种顶级科学家手底下学习，也不丢人。
只不过想了想自己的家人，还有他在魔都贷款买的房子，他还是放弃了这个想法。
“好了，这个还得等三个小时，先去看看抛光吧。”
这时候，林晓的声音提醒了在场的人们。
众人都回过了神，意识到这件事情。
毕竟这个炉子还要烧三个小时，他们也总不能在这里干等三小时，于是他们便迅速前往了抛光过程的抛光机旁。
罗明看着抛光机，上一次来这里还是上一次。
那一次他看到了在新抛光碟加成之下，他们的抛光精度达到了4nm的程度，而这一次，他们又有了新的抛光液，根据林晓说的，这能够让他们的抛光精度提升到2nm的程度。
对此，他已经十分期待了。
也没有久等，因为之前存了一些未抛光的矽晶圆，所以这次他们可以将这些未抛光的矽晶圆放上去进行实验。
随着机器运转，抛光机的行星式抛光流程再次运作起来，两边也可以看到有液体的溢位，这些液体就是他们的新型抛光液，这种抛光液由矽粉和氢氧化钠组成，其中还有一些其他占比很小的物质，不过也能对抛光过程进行处理。
CMP抛光，指的是化学机械抛光，顾名思义，既有化学抛光，也有机械抛光，其中化学抛光就是由抛光液负责。
氢氧化钠的成分能够透过对晶圆的表面不平处进行反应，进而使其表面更加平坦，而矽粉就能够在摩擦中，继续将内部不平处进行逐渐消磨。
而在这个过程中，这两种物质所占比例就是一个关键问题了。
优秀的配比，对抛光效果来说也有着较大的提升。
而林晓从系统那里得到这种抛光液内部成分以及比例，无疑就属于一种十分优秀的比例，此外，它和磨盘材料也十分搭配，两相搭配，他们的抛光效率，完全可以达到一个极高的程度。
就这样，随着时间慢慢过去，第一批矽晶圆出来了，而后他们便迅速将这批矽晶圆拿到了镭射干涉仪之下进行测量确定其表面精度。
没过多久，结果就出来了。
“表面平均精度都达到了2nm的程度！还有少部分达到了1nm！”
测量人员将这个振奋人心的讯息宣布了出来，顿时间生产线车间中的许多人都欢呼了起来。
罗明的脸上也露出了振奋的神情。
没想到林教授说2nm就2nm，一点都没有含湖！
这样一来，有了这种新型的抛光液，他们的抛光碟的使用寿命也能够得到提升！
这样在成本上也能得到减少。
想到这一点，他心中越发振奋起来。
这样的话，不出半年，他们华国将能够轻松地在世界矽晶圆生产上，占据重要的地位。